光刻机,又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造芯片的核心装备,也是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。随着半导体和信息通讯等产业稳步扩张,全球光刻机销量呈现稳步增长态势,在光刻机领域中,ASML拥有绝对优势,2022年共计出货量345台;佳能紧随其后,出货量达到176台;尼康相对数量较少,仅出货30台。其中,最先进的EUV光刻机,目前全球只有ASML有能力进行生产和销售。
中国光刻机研制起于70年代后期,初期型号为接触式或接近式光刻机,85年完成第一台分步光刻机,此后技术一直在推进,各个时间点均有代表性成果,并未出现所谓完全放弃研发的情况,但离世界先进水平仍有加大差距。我国拥有光刻机独立生产技术的公司只有五家。其中,上海微电子是国内光刻机龙头,承担多项国家重大科技专项和02专项光刻机科研任务,2022年2月7日,上海微电子举行首台2.5D/3D先进封装光刻机发运仪式,这标志着中国首台2.5D/3D先进封装光刻机正式交付客户。2022年11月15日,国家知识产权局公布了华为的一项新专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”(CN115343915A),这是在EUV光刻机核心技术上取得的突破性进展。另外,华中科技大学研制的OPC系统、哈尔滨工业大学研皇冠体肓官网,制的激光干涉系统等,也各自有所突破。同时,我国也在加快推进14纳米、7纳米甚至更低节点的光刻机研发工作。
目前国内厂商积极切入FPD光刻机市场。当前6代FPD光刻机为市场主流产品。上海微电子已经实现首台4.5代TFT投影光刻机进入用户生产线代以产品,切入主流厂商供应,有望打破长期皇冠体肓官网,被日本尼康和佳能所垄断的FPD光刻机市场格局。2022年全球半导体设备市场规模为1076.5亿美元,其中光刻机市场占比约为24%,规模达到约258.4亿美元。
光刻机是半导体产业“王冠上的明珠”,推进其关键技术研发,提升半导体设备国产化率,是我国半导体产业发展的必由之路。
产业研究院发布的《2025-2030年中国光刻机行业投资规划及前景预测报告》共十一章。首先介绍了光刻机行业的总体概况及全球行业发展形势,接着分析了中国光刻机行业发展政策、宏观环境以及市场总体发展状况。然后分别对光刻机产业的产业链上游相关行业、下游应用以及技术发展进行了详尽的解析。最后,报告对光刻机行业进行了重点企业运营分析并对行业未来发展前景进行了科学的预测。
本研究报告数据主要来自于国家统计局、商务部、工信部、中国海关总署、半导体行业协会、产业研究院、产业研究院市场调查中心以及国内外重点刊物等渠道皇冠体肓网站,,数据权威、详实、丰富,同时通过专业的分析预测模型,对行业核心发展指标进行科学地预测。您或贵单位若想对光刻机行业有个系统深入的了解、或者想投资光刻机行业,本报告将是您不可或缺的重要参考工具。
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